光谱样品制备

金属和材料的光谱样品制备变得越来越重要，因为在过去几年中软件以及OES和XRF装置的快速发展和改进改变了痕量分析的检测极限。准确制备样品至关重要。样品必须具有代表性，均匀且表面均匀，以消除可能影响结果的因素。

表面研磨机

自动铣床

摆动式研磨机

使用电弧和火花激发的光谱发射法(OES)是测定金属样品化学成分的首选方法。该工艺广泛应用于金属制造行业，包括主要初级生产商、铸造厂、压铸机及制造业。介于其分析准确、时间快，Arc/Spark OES系统是控制合金加工的最有效方法。该技术可用于生产周期的很多方面，包括来料检验、金属加工、半成品和成品的质量控制等需要对金属材料进行化学成分分析的许多应用。x射线荧光是测定样品中元素的最通用方法之一。材料暴露在x射线下，使得每一种元素都能发出自己独特的荧光x射线。结果的后续分析基于对标准样品的给定化学成分的比较。