化学机械抛光机 (CMP)
KemCol 15 机台是化学机械抛光 (CMP) 的理想选择, 也适合应用 氧化铈 基的抛光用途。该机由广范应用的科密特15研磨和抛光机台改装, 采用不锈钢元件替代涂漆的组件, 以延长使用寿和无污染的抛光。它带有标准的集成科密特 AkuDisp 完全可编程蠕动泵系统和陶瓷面或不锈钢修整调节环。Kemcol 15 系统最初被开发为医疗部门的一个超精加工的过程, 但现在也使用在注塑模具抛光工业, 蓝宝石抛光和许多其他。它能够在钴铬、不锈钢、钛和其他许多材料上产生无划痕的镜面表面。
- 不锈钢工作台围绕着抛光垫
- 抛光的不锈钢轭, 便于清洗
- 不锈钢驱动盘
- 铝合金提卸式研磨盘系统可选
- 陶瓷或不锈钢修整调节环，用于无污染抛光
- AkuDisp 全可编程蠕动泵机组为标准安装
- 适用于科密特磁性抛光垫系统, 便于更换垫件
KemCol 15 推荐配件 & 耗材
| 描述 | 代码 |
|---|---|
| 1套3个陶瓷面修整调节环 | 361522 |
| 不锈钢塑料面修整调节环 | 362235 |
| 380毫米不锈钢支撑盘 (用于抛光垫) | 362033 |
| 380毫米铝合金提卸式盘 | 361001 |
| 380毫米铝合金提卸式驱动盘 | 361002 |
| 380毫米薄金属圆盘 (用于磁性系统) | 342563 |
| 380毫米磁性圆盘 | 345773 |
| CMP 浆料 | 5 公升 | 10 公升 | 20 公升 |
|---|---|---|---|
| Col-K | 600212 | 600238 | 600204 |
| Col-K (NC) | 600199 | 600239 | 600202 |
| 推荐耗材 | 代码 |
|---|---|
| 380毫米 CHEM-H化学 型聚氨酯抛光垫 | 341865 |
| 380 毫米PSU- M 纺织品布料为适合配用铈抛光液 | 341011 |
| 380毫米MRE 短拉毛抛光垫 | 341715 |
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