Col-K 抛光悬浮液 (CMP 浆料)

胶体二氧化硅能够在抛光机上产生高质量镜面抛光的最佳效果。一半磨料、一半化学的抛光作用, 使得胶体二氧化硅能对难处理的材料进行抛光, 如硬质合金，铬合金。

胶体二氧化硅的缺点之一是在溶液中结晶。晶体有腐蚀性的作用, 可以腐化材料。

科密特开发了新一代的胶体二氧化硅--一种非结晶版本, 称为科密特 Col-K (NC)。有1, 5 和20公升桶装。

在研磨机上使用胶体二氧化硅时。注意机器上的白渣 (水晶) 。

在科密特15研磨机使用科密特 Col-K(NC)的效果。注意机器上没有白残渣。

Col-K 抛光液

液体抛光剂在科密特CHEM布上使用能产生高质量镜面抛光, 此制程用在 cmp 抛光机上。一半磨料、一半化学的抛光作用, 使得胶体二氧化硅能对难处理的材料进行抛光, 如硬质合金,钴铬合金。