科密特 DiaCol 研磨/抛光/超精抛光机台

科密特DiaCol 为新开发的单一多功能机台,可用于研磨和抛光工件,如传统研磨配用的铸铁盘、氧化铝或碳化硅浆料、精密金刚石研磨和科密特复合研磨盘抛光和科密特的金刚石浆料。使用在CHEM-H 垫和 Col-K 抛光介质抛光的超精抛光CMP (化学机械抛光) 机器规格有15寸、20寸 和24寸

研磨/抛光/超精抛光机台

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到目前为止, 科密特机器能够使用传统和金刚石的工艺, 若使用CMP 抛光则需要另一台的机器。这是因为 CMP 抛光的过程是腐蚀性的, 接触到 COL-K 的部件必须是环氧树脂涂层, 不锈钢或铝, 以延长寿命和无污染抛光。

DiaCol 考虑所有以上问题, 并装有一个集成的、完全可编程的蠕动器,Akudisp。它可以分配CMP化学抛光液。

特色:

  • 不锈钢可调式工作台
  • 不锈钢修整调节环和滚子轴承组件
  • 环氧树脂涂层支撑盘
  • 不锈钢压力重量
  • 传统磨料系统
  • 科密特金刚石配料系统及搅拌器
  • 陶瓷面或不锈钢修整调节环,用于无污染抛光
  • 科密特AkuDisp,可全编程的蠕动泵机组为标准安装
  • 适用于科密特磁抛光垫系统, 便于更换垫件
模型 产品代码
DiaCol 15 359867
DiaCol 20 359859
DiaCol 24 359869
研磨